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纳滤膜清洗技术介绍

发布时间:2022-12-13

  纳滤膜的一个很大特征是膜本体带有电荷性。这是它在很低压力下仍具有较高脱盐性能和截留分子量为数百有机物等的重要原因。膜清洗处理技术在当今社会生产的许多领域已经得到应用,社会效益也非常巨大,但也有一些像膜污染等问题制约着膜处理技术的进一步推广使用。

  纳滤膜清洗条件:

  清洗时机主要依据以下参数的变化来选择:

  (1)在正常给水压力下,产水量较正常值下降10%~15%;

  (2)为维持正常产水量,经温度校正后地给水压力增加10%~15%;

  (3)产水水质降低10%~15%,透盐率增加10%~15%:

  (4)系统各段之间压差明显增加。

  以上标准的基准条件,可考虑取自系统经过最初48h运行时的纳滤膜的性能。需要注意的是,如果进水温度降低,膜元件产水量也会下降,这是正常现象并非纳滤膜的污染所致。预处理失效,压力控制失常或回收率的增加也将会导致产水量的下降或透盐率的增加。当观察到系统出现问题时,此时膜元件可能并不需要清洗,应该首先考虑这类原因。

  正常的清洗周期是每3~12个月一次。如果1个月内清洗一次以上,需对纳滤预处理系统做进一步调整和改善或者重新设计预处理系统。如果清洗频率是每3个月一次,需对现有设备进行改造。如果膜元件的性能降低至正常值的30%~50%时,清洗将不能完全恢复膜元件的性能,此时需考虑更换膜元件。

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